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2008-08-23
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技术参数
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| 含量(%) |
99.999 |
| 粒度 |
... 目 |
| 产品等级 |
分析纯 |
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四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。 侵入途径: 接触眼睛,接触皮肤,吸入,误食 健康危害: 当中害者因为缺氧不省人事,必须转移到没受污染的地方使之能呼吸新鲜空气或者输入氧气 环境危害: 该物质在常温常压下是气体。吸入高浓度的溶液后,会发生头昏、恶心、呕吐、方向感丧失、失调、昏迷。吸入者会窒息。低温气体会导致冻伤。
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